PRODUCT CENTER

检测与量测设备

面向前道 Fab、先进封装、功率器件与化合物半导体,覆盖缺陷检测、纳米形貌与几何量测。

  • 7检测设备
  • 2量测设备
  • 1AI 良率平台

APPLICATIONS

四大应用领域,从衬底来料到出厂的全流程过程控制

按产线节点选平台,多个腔体可共用一个 EFEM 组合成一台。

01

前道 Fab · 逻辑 / 存储

Front-End Fab

来料 IQC · 光刻前背面与几何管控 · Fast ADI · 刻蚀 / 薄膜 / CMP 后缺陷与形貌监控 · 设备洁净度

02

先进封装 · TSV / 混合键合 / 玻璃基板

Advanced Packaging

RDL / Bump 图形缺陷 · TSV / TGV 深度与 CD · 键合空洞 · 叠层厚度 · 翘曲

03

功率器件 · IGBT / SiC MOSFET

Power Devices

沟槽 CD / 深度 · 减薄背面形貌 · 背面颗粒 · 图形片 100% 全检

04

化合物半导体与硅片衬底

Compound & Substrates

SiC / GaN 衬底与外延缺陷 · 纳米形貌 · 颗粒 · 边缘 · 几何分档

产线节点 × 平台覆盖

Process step × platform coverage

  • 主要应用
  • 可选 / 按配置
  • 检测设备
  • 量测设备
工艺节点Process step检测设备 · 7量测设备 · 2
KIBOACONCACANIGOMUSHICARPPAVEYMONTDRAKENSNANSIELBRUS
衬底 / 硅片来料 IQCIncoming substrate QC
外延 EPIEpitaxy
光刻 · 刻蚀 · 薄膜Litho (ADI) / Etch / Film
CMP · 减薄CMP / Thinning
先进封装 RDL · Bump · TSV · 键合 · 玻璃基板Advanced packaging
出厂 OQC · 设备与工艺洁净度监控Outgoing QC / tool monitoring
检测设备
KIBO 系列 无图形晶圆缺陷检测设备

无图形晶圆缺陷检测设备

KIBO 系列

全片高速扫描裸硅、外延、氧化、氮化与金属表面,颗粒、划伤、Haze 计数定位并自动分类,灵敏度覆盖 μm 级到 1x nm。

最高颗粒检测灵敏度
1x nm
衬底通吃
透明 · 非透明
计数 · 定位 · 分档
自动分类
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检测设备
ACONCA 系列 全自动图形晶圆光学检测设备

全自动图形晶圆光学检测设备

ACONCA 系列

自研大视野镜头配合明 / 暗场照明全片检测图形缺陷,可选配 3D AOI 与 PL 通道,输出芯粒级缺陷地图。

2D AOI 基础配置
图形缺陷
选配能力
3D AOI · PL
自研 · 扫得更快
大视野镜头
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检测设备
CANIGO 系列 全自动晶圆背面检测设备

全自动晶圆背面检测设备

CANIGO 系列

非接触承载、全片一次成像,免 Recipe 检出背面颗粒、划伤、崩边、污渍与 Chuck 印,与光刻、CMP 主设备同速在线。

背面全片一次扫完
一次成像
开机即用
免 Recipe
全程非接触承载
非接触
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检测设备
MUSHI 系列 全自动晶边检测与量测设备

全自动晶边检测与量测设备

MUSHI 系列

全周扫描上斜面、Apex 与下斜面,检出边缘缺陷并同时量测边缘轮廓,检测与量测同一机台完成。

检测
边缘缺陷
量测
边缘轮廓
同一机台完成
检 + 量一体
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检测设备
CARPPA 系列 快速过程控制设备

快速过程控制设备

CARPPA 系列

Recipe-free 快速宏观检测与过程监控平台,主打光刻后显影检测(Fast ADI),每片晶圆快速全检、异常即时预警。

开机即用
Recipe-free
光刻后显影快速全检
Fast ADI
在线过程控制节点
100% 全检
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检测设备
VEYMONT 系列 全表面纳米形貌检测设备

全表面纳米形貌检测设备

VEYMONT 系列

晶圆正、背面全表面纳米级形貌成像,纵向精度可达 2 nm;键合空洞全片非接触检测,可取代 CSAM。

纳米形貌 · 纵向精度
2 nm
双面同扫
正 + 反
非接触检测 · 可取代 CSAM
键合空洞
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检测设备
DRAKENS 系列 SiC 晶圆宏观缺陷自动检测设备

SiC 晶圆宏观缺陷自动检测设备

DRAKENS 系列

单次扫描同时采集正背面,检出 SiC 衬底与外延片的表面弱划痕、宏观缺陷与晶格缺陷,并自动分类分级。

表面微划痕检出
弱划痕
微管 · 位错 · 多型 · 堆垛层错
晶格缺陷
SiC 批量检测
12 英寸
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量测设备
NANSI 系列 多通道晶圆量测设备

多通道晶圆量测设备

NANSI 系列

正反面探头同步、全程非接触的多通道光学量测平台,厚度、翘曲、膜厚与 TSV / TGV 一台完成。

双面探头同步量测
正 + 反
复合叠层也精准
含金属层
TSV / TGV 最小 CD
亚微米
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量测设备
ELBRUS 系列 全晶圆几何量测设备

全晶圆几何量测设备

ELBRUS 系列

面向 300 mm 图形片与裸片,一次成像即得整片 Bow、Warp、厚度 / TTV、平坦度与中低频形貌,满足量产在线全检。

全片免扫描
一次成像
厚度 / TTV · 平坦度
Bow · Warp
同一平台同一 Recipe
图形 + 裸片
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SOFTWARE & PLATFORM

PlanckADC

智能缺陷分类与良率管理平台

贯穿全部设备的 AI 软件层:把检测图像与数据自动分类、分级,变成可统计、可预警、能指导工艺与设备维护的良率洞察。

节点化算法流程 · Workflow 编辑器示例数据

节点库

图像读取图像预处理YOLO 检测缺陷分类Result 输出
  1. 01图像读取Read · Batch
  2. 02图像预处理Gauss · Top-hat
  3. 03YOLO 检测HBB · OBB
  4. 04缺陷分类JSON · PromptList
  5. 05Result 输出JSON · CSV · TIFF
运行执行进度 0 / 5

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我们将根据材料、工艺环节与关注参数匹配相应设备平台。